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優(yōu)質氮化鋁陶瓷覆銅板制作工藝具體方法優(yōu)質高強度氮化鋁陶瓷覆銅板能解決隨著電力半導體模塊電流容量和功率密度的不斷提高，單位面積功耗大大增加，引起的大功率模塊的散熱關鍵詞問題。氮化鋁陶瓷覆銅板能替代氧化鋁陶瓷覆銅板，是因為氮化鋁陶瓷覆銅板的導熱能力更高。氧化鋁基陶瓷覆銅板（Al2O3DBC基板）由于具有優(yōu)良的機械性能和很高的電絕緣強度，且資源豐富、價格低廉，具有超高的性價比，在中、小功率電力半導體模塊制作的DBC基板中占有主導地位，但因其熱導率較低，線性膨脹系數與硅相差較大，所以Al2O3 DBC基板在大功率模塊制作中就顯得非常不足，而AlN陶瓷的絕緣性能和機械性能都很接近Al2O3陶瓷，且它的熱導率是Al2O3陶瓷的7倍左右，線膨脹系數與硅匹配性更好，因此氮
2022-05-30 http://m.ymmxhf.cn/Article/youzhidanhualvtaocif.html
氮化鋁多層陶瓷及覆銅基板采用什么工藝制作氮化鋁多層陶瓷基板以及氮化鋁覆銅基板已經被充分應用到LED功率照明、半導體器件、醫(yī)療、汽車電子等產品領域。那么氮化鋁多層陶瓷及覆銅基板是怎么做出來的，采用什么工藝做的呢？一，氮化鋁多層陶瓷基板多采用HTCC高溫燒結或者LTCC低溫燒結工藝制作HTCC氮化鋁多層陶瓷基板具有薄型化、微型化、具體高強度、高氣密性、高電氣性能特征。HTCC高溫燒結氮化鋁多層陶瓷基板多被應用到高導熱、高集成、智能化的產品領域，LED功率模組、大功率微組裝電路、加熱器等。LTCC低溫共燒多層氮化鋁陶瓷基板，多應用在光通訊、應用于 MEMS、驅動器和傳感器等領域、應用于航空、航天及軍事領域、應用在汽車電子等領域、醫(yī)療等。 二，氮化鋁陶瓷覆銅
2022-03-29 http://m.ymmxhf.cn/Article/danhualvduocengtaoci.html
優(yōu)良的導電和導熱性能是氮化鋁陶瓷直接覆銅基板的核心優(yōu)勢，在大功率、高密度封裝領域具有廣泛的應用前景。但是氮化鋁陶瓷直接覆銅基板的金屬結合力是非常重要的關鍵，這個直接影響到后面的焊接和元器件插件。那么氮化鋁陶瓷直接覆銅基板在不同的溫度和時長情況下因為銅片氧化層的變化而變化，以下是具體的幾個方面：直接覆銅法制備氮化鋁陶瓷覆銅基板的工藝條件下，采用分別在無氧銅片和AlN基片上進行預氧化的方法,從而形成相應的Cu2O和Al2O3氧化層,然后通過化學反應形成封接良好的界面,制備出AlN陶瓷直接敷銅基板。不同銅片高溫和時間長度下，氮化鋁陶瓷覆銅基板結合力情況如下：在900~1050℃之間,當氧氣體積分數為2%~10%時,銅片表面可生成純的Cu2O層。Cu2O層厚度隨溫度和氧含量的增加而逐漸增加,達到一定厚度后產生剝落。氧化
2021-04-01 http://m.ymmxhf.cn/Article/danhualvtaocizhijief.html
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